半导体生产制造
多组分24小时在线监测，确保生产工艺质量控制
晶圆抛光终点在线监测与控制
高灵敏度、高可靠性的在线闭环控制系统
由于 CMP 过程在与停止层或目标层反应时，会选择性地产生化学反应产物（例如当在含有 KOH 的料液中抛光带有氮化物膜的晶圆时，会产生氨），因此可以通过不同的化学产物来检测 CMP 终点。将化学反应产物转化为单独的产物，从单独的产物中产生激发分子，并且在移除目标膜时监测激发分子发射的光的水平。
我们所提供的 CMP 终点控制系统 M17，基于工艺状态技术测量整个晶圆，因此能为芯片上的活性结构提供代表性信号。这种非侵入式系统可原位、实时测量抛光过程，不受任何去除率变化的影响，可在含有氮化物变化的层上精确地停止 CMP 过程。同时，它大幅减少了对传入和 CMP 后晶圆厚度的测量，能显著提高工艺产量，节省成本。
CMP工艺终点控制系统
M17
离子分子反应质谱仪
洁净室空气质量检测
应用优势
检测灵敏度低于 ppb，响应时间为1秒，可原位实时测量，是目前最快的 CMP 终点检测系统之一。该系统使用可靠，维护量小（一年只需几小时），可安全稳定连续运行，且拥有高度智能化、灵活性和人性化的过程控制软件，可为每种晶圆提供可靠的终点检测方法。
响应时间
1秒
原位实时测量
安全稳定
半导体生产环境监测
而在半导体生产过程中，需要经历数十甚至上百道工序，任何微小的沾污都有可能导致电路时效。因此，从半导体工厂的建造调试到正式运行生产，都必须经过严苛的检测，方能保证精密生产。
OLED 显示屏生产工艺洁净室空气质量检测：应用离子分子反应质谱仪可以实现对洁净室中酸类、苯类、酮类等组分进行24小时不间断实时监控，是半导体生产工艺中不可或缺的质量控制设备。
半导体工艺气体泄漏监测：应用便携式电子轰击四级杆质谱仪一台设备即可完成所有半导体气体监测，识别半导体工厂的阀门、接头、仪表等是否发生故障、泄露以及清洁度要求，保证安全供气。
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